Verfahren zur Reinigung von Pyrazolen

Verfahren zur Reinigung von Pyrazolen

Die Reinigung von Pyrazolen der allgemeinen Formel (I)mit der Bedeutung R1, R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, Nitro oder gegebenenfalls durch C1-4-Alkyl, Halogen und/oder Nitro substituiertes C1-20-Alkyl, C3-8-Cycloalkyl, C6-12-Aryl, C7-13-Alkylaryl oder C7-13-Aralkyl, R3 Wasserstoff o...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: ECKENRATH, HELMUT, PASCH, ROLAND, WALDMANN, LUDGER, HAHN, CASPAR-FRIEDRICH
Format: Patent
Sprache:ger
Schlagworte:
CHEMISTRY
HETEROCYCLIC COMPOUNDS
METALLURGY
ORGANIC CHEMISTRY
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Beschreibung
Zusammenfassung:Die Reinigung von Pyrazolen der allgemeinen Formel (I)mit der Bedeutung R1, R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, Nitro oder gegebenenfalls durch C1-4-Alkyl, Halogen und/oder Nitro substituiertes C1-20-Alkyl, C3-8-Cycloalkyl, C6-12-Aryl, C7-13-Alkylaryl oder C7-13-Aralkyl, R3 Wasserstoff oder gegebenenfalls durch C1-4-Alkyl, Halogen und/oder Nitro substituiertes C1-20-Alkyl, C3-8-Cycloalkyl, C6-12-Aryl, C7-13-Alkylaryl oder C7-13-Aralkyl erfolgt durch Lösen der Pyrazole der allgemeinen Formel (I) in Wasser oder einem organischen Lösungsmittel, nachfolgende Umsetzung mit mindestens äquimolaren Mengen einer anorganischen Mineralsäure und/oder einer organischen Säure und Abtrennen der erhaltenen Säureadditionssalze durch Kristallisation.