Vakuumprozessanlage mit einer Einrichtung zur Druckseparation

Vakuumprozessanlage zur Behandlung von Substraten, umfassend eine Vakuumkammer mit einer darin angeordneten Transporteinrichtung für den Transport der Substrate durch die Vakuumkammer in einer Transportrichtung und mit mindestens einem oberhalb der Transporteinrichtung angeordneten, quer zur Transpo...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	JAEGER, REINHARD, LESMANN, STEFFEN, BAUER, REINHARDT, KENNE, MARCO, HENTSCHEL, MICHAEL, BARTHEL, KNUT, WAYDBRINK, HUBERTUS VON DER
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BLASTING CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL CYLINDERS DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVEFUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS HEATING INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL LIGHTING MECHANICAL ENGINEERING METALLURGY PISTONS SEALINGS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION THERMAL INSULATION IN GENERAL WEAPONS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Vakuumprozessanlage zur Behandlung von Substraten, umfassend eine Vakuumkammer mit einer darin angeordneten Transporteinrichtung für den Transport der Substrate durch die Vakuumkammer in einer Transportrichtung und mit mindestens einem oberhalb der Transporteinrichtung angeordneten, quer zur Transportrichtung der Substrate verlaufenden Druckseparationselement, welches sich unter Bildung eines Spalts auf die Oberseite der Substrate zu erstreckt, dadurch gekennzeichnet, dass das Druckseparationselement in seinem oberen Bereich um eine quer zur Transportrichtung verlaufende Achse schwenkbar gelagert ist.