Anordnung zur Beschichtung von Substraten
Anordnung zur Beschichtung von Substraten, die in einem Vakuumraum eine Beschichtungsquelle und eine Substratauflage aufweist, zu der die Beschichtungsquelle einseitig angeordnet ist, so dass die Substratauflage eine zu der Beschichtungsquelle weisende Beschichtungsquellenseite und eine der Beschich...
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , , , , , , , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | ger |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | STEUER, CHRISTOPH SENS, MARTIN KRALAPP, UWE HUMMEL, HENDRIK UHLEMANN, AIKO FABER, JOERG POLLACK, GERD BARTH, SVEN |
| description | Anordnung zur Beschichtung von Substraten, die in einem Vakuumraum eine Beschichtungsquelle und eine Substratauflage aufweist, zu der die Beschichtungsquelle einseitig angeordnet ist, so dass die Substratauflage eine zu der Beschichtungsquelle weisende Beschichtungsquellenseite und eine der Beschichtungsquelle abgewandte Rückseite aufweist und dass die Substratauflage in dem Vakuumraum einen Beschichtungsraum auf der Beschichtungsquellenseite und einen Rückseitenraum auf der Rückseite der Substratauflage definiert, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Rückseitenraum eine Beschichtung der Rückseite verringernde und die nicht zur Beschichtung vorgesehenen Teilchen bindende Teilchenfalle angeordnet ist, wobei die Teilchenfalle aus einem in einem Abstand zu der Substratauflage angeordneten Auffangelement besteht, auf dessen zur Beschichtungsquelle weisenden Seite zueinander beabstandete Ablenkelemente angeordnet sind, deren jeweilige Oberflächen überwiegend eine Flächensenkrechte aufweisen, die zu der Richtung zu der Beschichtungsquelle hin einen Winkel von 90° bis 45° einschließt, wobei der Abstand höchsten gleich einem Abstand zwischen der Beschichtungsquelle und der Substratauflage ist. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_DE102009030814B4</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>DE102009030814B4</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_DE102009030814B43</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZNB0zMsvSskrzUtXqCotUnBKLU7OyEzOKAEJlOXnKQSXJhWXFCWWpObxMLCmJeYUp_JCaW4GVTfXEGcP3dSC_PjU4oLE5NS81JJ4F1dDAyMDA0sDYwMLQxMnE2Ni1QEAW9UqbA</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>Anordnung zur Beschichtung von Substraten</title><source>esp@cenet</source><creator>STEUER, CHRISTOPH ; SENS, MARTIN ; KRALAPP, UWE ; HUMMEL, HENDRIK ; UHLEMANN, AIKO ; FABER, JOERG ; POLLACK, GERD ; BARTH, SVEN</creator><creatorcontrib>STEUER, CHRISTOPH ; SENS, MARTIN ; KRALAPP, UWE ; HUMMEL, HENDRIK ; UHLEMANN, AIKO ; FABER, JOERG ; POLLACK, GERD ; BARTH, SVEN</creatorcontrib><description>Anordnung zur Beschichtung von Substraten, die in einem Vakuumraum eine Beschichtungsquelle und eine Substratauflage aufweist, zu der die Beschichtungsquelle einseitig angeordnet ist, so dass die Substratauflage eine zu der Beschichtungsquelle weisende Beschichtungsquellenseite und eine der Beschichtungsquelle abgewandte Rückseite aufweist und dass die Substratauflage in dem Vakuumraum einen Beschichtungsraum auf der Beschichtungsquellenseite und einen Rückseitenraum auf der Rückseite der Substratauflage definiert, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Rückseitenraum eine Beschichtung der Rückseite verringernde und die nicht zur Beschichtung vorgesehenen Teilchen bindende Teilchenfalle angeordnet ist, wobei die Teilchenfalle aus einem in einem Abstand zu der Substratauflage angeordneten Auffangelement besteht, auf dessen zur Beschichtungsquelle weisenden Seite zueinander beabstandete Ablenkelemente angeordnet sind, deren jeweilige Oberflächen überwiegend eine Flächensenkrechte aufweisen, die zu der Richtung zu der Beschichtungsquelle hin einen Winkel von 90° bis 45° einschließt, wobei der Abstand höchsten gleich einem Abstand zwischen der Beschichtungsquelle und der Substratauflage ist.</description><language>ger</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2014</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20140206&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102009030814B4$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20140206&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102009030814B4$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>STEUER, CHRISTOPH</creatorcontrib><creatorcontrib>SENS, MARTIN</creatorcontrib><creatorcontrib>KRALAPP, UWE</creatorcontrib><creatorcontrib>HUMMEL, HENDRIK</creatorcontrib><creatorcontrib>UHLEMANN, AIKO</creatorcontrib><creatorcontrib>FABER, JOERG</creatorcontrib><creatorcontrib>POLLACK, GERD</creatorcontrib><creatorcontrib>BARTH, SVEN</creatorcontrib><title>Anordnung zur Beschichtung von Substraten</title><description>Anordnung zur Beschichtung von Substraten, die in einem Vakuumraum eine Beschichtungsquelle und eine Substratauflage aufweist, zu der die Beschichtungsquelle einseitig angeordnet ist, so dass die Substratauflage eine zu der Beschichtungsquelle weisende Beschichtungsquellenseite und eine der Beschichtungsquelle abgewandte Rückseite aufweist und dass die Substratauflage in dem Vakuumraum einen Beschichtungsraum auf der Beschichtungsquellenseite und einen Rückseitenraum auf der Rückseite der Substratauflage definiert, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Rückseitenraum eine Beschichtung der Rückseite verringernde und die nicht zur Beschichtung vorgesehenen Teilchen bindende Teilchenfalle angeordnet ist, wobei die Teilchenfalle aus einem in einem Abstand zu der Substratauflage angeordneten Auffangelement besteht, auf dessen zur Beschichtungsquelle weisenden Seite zueinander beabstandete Ablenkelemente angeordnet sind, deren jeweilige Oberflächen überwiegend eine Flächensenkrechte aufweisen, die zu der Richtung zu der Beschichtungsquelle hin einen Winkel von 90° bis 45° einschließt, wobei der Abstand höchsten gleich einem Abstand zwischen der Beschichtungsquelle und der Substratauflage ist.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2014</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZNB0zMsvSskrzUtXqCotUnBKLU7OyEzOKAEJlOXnKQSXJhWXFCWWpObxMLCmJeYUp_JCaW4GVTfXEGcP3dSC_PjU4oLE5NS81JJ4F1dDAyMDA0sDYwMLQxMnE2Ni1QEAW9UqbA</recordid><startdate>20140206</startdate><enddate>20140206</enddate><creator>STEUER, CHRISTOPH</creator><creator>SENS, MARTIN</creator><creator>KRALAPP, UWE</creator><creator>HUMMEL, HENDRIK</creator><creator>UHLEMANN, AIKO</creator><creator>FABER, JOERG</creator><creator>POLLACK, GERD</creator><creator>BARTH, SVEN</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20140206</creationdate><title>Anordnung zur Beschichtung von Substraten</title><author>STEUER, CHRISTOPH ; SENS, MARTIN ; KRALAPP, UWE ; HUMMEL, HENDRIK ; UHLEMANN, AIKO ; FABER, JOERG ; POLLACK, GERD ; BARTH, SVEN</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102009030814B43</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>ger</language><creationdate>2014</creationdate><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>STEUER, CHRISTOPH</creatorcontrib><creatorcontrib>SENS, MARTIN</creatorcontrib><creatorcontrib>KRALAPP, UWE</creatorcontrib><creatorcontrib>HUMMEL, HENDRIK</creatorcontrib><creatorcontrib>UHLEMANN, AIKO</creatorcontrib><creatorcontrib>FABER, JOERG</creatorcontrib><creatorcontrib>POLLACK, GERD</creatorcontrib><creatorcontrib>BARTH, SVEN</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>STEUER, CHRISTOPH</au><au>SENS, MARTIN</au><au>KRALAPP, UWE</au><au>HUMMEL, HENDRIK</au><au>UHLEMANN, AIKO</au><au>FABER, JOERG</au><au>POLLACK, GERD</au><au>BARTH, SVEN</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Anordnung zur Beschichtung von Substraten</title><date>2014-02-06</date><risdate>2014</risdate><abstract>Anordnung zur Beschichtung von Substraten, die in einem Vakuumraum eine Beschichtungsquelle und eine Substratauflage aufweist, zu der die Beschichtungsquelle einseitig angeordnet ist, so dass die Substratauflage eine zu der Beschichtungsquelle weisende Beschichtungsquellenseite und eine der Beschichtungsquelle abgewandte Rückseite aufweist und dass die Substratauflage in dem Vakuumraum einen Beschichtungsraum auf der Beschichtungsquellenseite und einen Rückseitenraum auf der Rückseite der Substratauflage definiert, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Rückseitenraum eine Beschichtung der Rückseite verringernde und die nicht zur Beschichtung vorgesehenen Teilchen bindende Teilchenfalle angeordnet ist, wobei die Teilchenfalle aus einem in einem Abstand zu der Substratauflage angeordneten Auffangelement besteht, auf dessen zur Beschichtungsquelle weisenden Seite zueinander beabstandete Ablenkelemente angeordnet sind, deren jeweilige Oberflächen überwiegend eine Flächensenkrechte aufweisen, die zu der Richtung zu der Beschichtungsquelle hin einen Winkel von 90° bis 45° einschließt, wobei der Abstand höchsten gleich einem Abstand zwischen der Beschichtungsquelle und der Substratauflage ist.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | ger |
| recordid | cdi_epo_espacenet_DE102009030814B4 |
| source | esp@cenet |
| subjects | CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION |
| title | Anordnung zur Beschichtung von Substraten |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-04T20%3A20%3A27IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=STEUER,%20CHRISTOPH&rft.date=2014-02-06&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EDE102009030814B4%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |