Anordnung zur Beschichtung von Substraten
Anordnung zur Beschichtung von Substraten, die in einem Vakuumraum eine Beschichtungsquelle und eine Substratauflage aufweist, zu der die Beschichtungsquelle einseitig angeordnet ist, so dass die Substratauflage eine zu der Beschichtungsquelle weisende Beschichtungsquellenseite und eine der Beschich...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Anordnung zur Beschichtung von Substraten, die in einem Vakuumraum eine Beschichtungsquelle und eine Substratauflage aufweist, zu der die Beschichtungsquelle einseitig angeordnet ist, so dass die Substratauflage eine zu der Beschichtungsquelle weisende Beschichtungsquellenseite und eine der Beschichtungsquelle abgewandte Rückseite aufweist und dass die Substratauflage in dem Vakuumraum einen Beschichtungsraum auf der Beschichtungsquellenseite und einen Rückseitenraum auf der Rückseite der Substratauflage definiert, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Rückseitenraum eine Beschichtung der Rückseite verringernde und die nicht zur Beschichtung vorgesehenen Teilchen bindende Teilchenfalle angeordnet ist, wobei die Teilchenfalle aus einem in einem Abstand zu der Substratauflage angeordneten Auffangelement besteht, auf dessen zur Beschichtungsquelle weisenden Seite zueinander beabstandete Ablenkelemente angeordnet sind, deren jeweilige Oberflächen überwiegend eine Flächensenkrechte aufweisen, die zu der Richtung zu der Beschichtungsquelle hin einen Winkel von 90° bis 45° einschließt, wobei der Abstand höchsten gleich einem Abstand zwischen der Beschichtungsquelle und der Substratauflage ist. |
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