Illuminating device for microlithography projection illumination system that manufactures micro-structured component, has lens aperture with surface bulged in light propagation direction, where aperture masks base light distribution areas

The device has a light source (1) for producing projection light, and a masking device (5) for masking a reticle (R). A masking lens (6) form the masking device at the reticle, and a pupil forming unit (3) receives light from the light source and causes preset base light distribution in a pupil plane (PP) of the illumination device. A lens aperture (10) is arranged in the masking lens, and a surface of the lens aperture is bulged in a light propagation direction, where the lens aperture masks areas of the base light distribution. Independent claims are also included for the following: (1) a method for illuminating an illumination field (2) a method for manufacturing a lens aperture. Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Lichtquelle zur Erzeugung von Projektionslicht, einer Maskierungseinrichtung zur Maskierung eines Retikels, einem Maskierungsobjektiv zur Abbildung der Maskierungseinrichtung auf das Retikel und einer Pupillenformungseinheit zum Empfang von Licht der zugeordneten Lichtquelle und zur Erzeugung einer vorgebbaren Basislichtverteilung in einer Pupillenebene der Beleuchtungseinrichtung, wobei eine Blende in dem Maskierungsobjektiv angeordnet und die Oberfläche der Blende in Richtung der Lichtausbreitung gewölbt ist und wobei mit Hilfe der Blende gezielt Bereiche der Basislichtverteilung ausgeblendet werden können.