CVD-Beschichtungsverfahren, Beschichtungsvorrichtung und Bauteil einer Fluidführung

Die Erfindung betrifft ein CVD-Beschichtungsverfahren und eine CVD-Beschichtungsvorrichtung (10, 20, 30) zum Herstellen eines Bauteiles einer Fluidführung, insbesondere zum Herstellen eines Wärmetauschers und/oder eines Bauteiles in der umgebenden Fluidführung eines Wärmetauschers, welches Bauteil z...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	HOLZMANN, FRANK, HOLLER, SEBASTIAN, CONRAD, NADINE, SCHAPER, JOERG
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BLASTING CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OFGENERAL APPLICATION DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL HEAT EXCHANGE IN GENERAL HEATING INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL LIGHTING MECHANICAL ENGINEERING METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION WEAPONS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein CVD-Beschichtungsverfahren und eine CVD-Beschichtungsvorrichtung (10, 20, 30) zum Herstellen eines Bauteiles einer Fluidführung, insbesondere zum Herstellen eines Wärmetauschers und/oder eines Bauteiles in der umgebenden Fluidführung eines Wärmetauschers, welches Bauteil zumindest eine Fläche aufweist, die mit einer Beschichtung versehen wird, wobei - das Bauteil mit der temperierten Fläche in unbeschichtetem Zustand zur Verfügung gestellt wird; - die temperierte Fläche mit einem temperierten und mit mindestens einer reaktiven Komponente beladenen Fluidstrom aus Trägergas und Reaktivkomponente beaufschlagt wird und - der Fluidstrom auf der temperierten Fläche zu mindestens einer korrosionshemmenden Schicht in Form einer SiOx-Schicht reagiert. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass - das Trägergas ein Sauerstoff enthaltendes Gas ist, - eine erste Reaktivkomponente eine siliziumorganische Verbindung ist und - eine zweite Reaktivkomponente eine Wasser-basierte Komponente ist.