Dental implant for implantable into human body, has axial guiding surface formed by wall of inclination plane projecting from distal end towards proximal end, where distal end runs out from plane and formed as sealing surface for abutment
The implant (11) has an implant body (12) made of metal and/or metal alloy and/or metal polymer and/or ceramics and/or ceramics polymer by injection molding procedure. The body has an outer thread (24), an axial conical guiding surface (20), a locking device (21) for abutment and an internal threade...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; ger |
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Zusammenfassung: | The implant (11) has an implant body (12) made of metal and/or metal alloy and/or metal polymer and/or ceramics and/or ceramics polymer by injection molding procedure. The body has an outer thread (24), an axial conical guiding surface (20), a locking device (21) for abutment and an internal threaded hole (22) for retaining screw for abutment. The guiding surface is formed by a wall of a rotationally symmetric inclination plane projecting from a distal end towards a proximal end. The distal end runs out from the inclined plane and formed as a sealing surface (23) for abutment. An independent claim is also included for a dental implant system comprising a locking screw.
Ein Dentalimplantat (11) besitzt einen aus einem Metall und/oder aus einer Metalllegierung und/oder einem Metallpolymer und/oder Keramik und/oder Keramikpolymer im Spritzgussverfahren hergestellten Implantatkörper (12), der ein Außengewinde (24), innenseitig eine axiale Führungsfläche (20) und eine Verdrehsicherung (21) für ein Abutment (13) sowie eine Innengewindebohrung (22) für eine Halteschraube (14) für das Abutment (13) aufweist. Um bei einem derartigen Dentalimplantat mögliche Mikrobewegungen im Wesentlichen vollständig zu eliminieren und eine im Wesentlichen hundertprozentige Dichtheit zu gewährleisten, ist vorgesehen, dass die axiale Führungsfläche (20) für das Abutment (13) durch die Wandung einer sich von distal nach proximal verjüngenden rotationssymmetrischen schiefen Ebene gebildet ist und dass das distale Ende, von dem die rotationssymmetrische schiefe Ebene ausgeht, als Dichtfläche (23) für das Abutment (13) ausgebildet ist. |
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