Verfahren zur Temperaturmessung an Substraten und Vakuumbeschichtungsanlage
Verfahren zur Temperaturmessung an Substraten (13), wobei die Substrate (13) durch eine Vakuumkammer an mindestens einer Wärmequelle vorbei bewegt werden und die Substrattemperatur an mindestens zwei Positionen, die das Substrat (13) bei seiner Bewegung durch die Vakuumkammer nacheinander einnimmt,...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Verfahren zur Temperaturmessung an Substraten (13), wobei die Substrate (13) durch eine Vakuumkammer an mindestens einer Wärmequelle vorbei bewegt werden und die Substrattemperatur an mindestens zwei Positionen, die das Substrat (13) bei seiner Bewegung durch die Vakuumkammer nacheinander einnimmt, durch je ein Pyrometer (9, 10, 11, 12) bestimmt wird, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Pyrometer (9, 10, 11, 12) durch Vergleich von gemessener und berechneter Abkühlung der Substrate (13) im Vakuum kalibriert wird. |
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