Substrate's temperature measuring method for vacuum deposition system, involves continuously calibrating pyrometers for determining temperature of substrate at different points on vacuum chamber

The method involves moving a substrate (13) via a vacuum chamber. Pyrometers (9-12) are continuously calibrated for determining temperatures of the substrate at different points on the chamber by comparing measured and estimated cooling values of the substrate at vacuum. The temperatures are measured at beginning of the chamber. The substrate is heated and emissivities of the pyrometers are determined at different temperatures. The pyrometers are consecutively arranged. An independent claim is also included for a vacuum deposition system for continuous pretreating and deposition of a substrate. Es wird ein Verfahren zur Temperaturmessung an Substraten (13) beschrieben, die durch eine Vakuumkammer bewegt werden, wobei Pyromter (9, 10, 11, 12) zur Bestimmung der Substrattemperaturen an verschiedenen Stellen der Vakuumkammer durch Vergleich von gemessener und berechneter Abkühlung der Substrate (13) im Vakuum kalibriert werden. Zur Durchführung des Verfahrens wird eine Vakuumbeschichtungsanlage zum kontinuierlichen Vorbehandeln und Beschichten von Substraten (13) vorgeschlagen mit mindestens einer Wärmequelle und mit einer Einrichtung zur Temperaturmessung, umfassend mindestens zwei Pyrometer (9, 10, 11, 12), die hinter der Wärmequelle und in der Transportrichtung des Substrats (13) gesehen mit einem Abstand zueinander hintereinander angeordnet sind, wobei zwischen den Pyrometern (9, 10, 11, 12) ein von Wärmequellen freier Abstand vorhanden ist.