Elektrodenanordnung für magnetfeldgeführte plasmagestützte Prozesse im Vakuum

Vorrichtung (4) zur Entfernung dünner Schichten von der Oberfläche eines Substrats (5) im Vakuum, umfassend eine Transporteinrichtung (41) für Substrate (5) sowie eine Elektrodenanordnung mit einer auf relativem Anodenpotential liegenden, zumindest teilweise parallel zu der zu behandelnden Oberfläch...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	KAMMER, MANFRED, STEUER, CHRISTOPH, SENS, MARTIN, WENZEL, BERND-DIETER
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY PLASMA TECHNIQUE PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS
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