Elektrodenanordnung für magnetfeldgeführte plasmagestützte Prozesse im Vakuum

Vorrichtung (4) zur Entfernung dünner Schichten von der Oberfläche eines Substrats (5) im Vakuum, umfassend eine Transporteinrichtung (41) für Substrate (5) sowie eine Elektrodenanordnung mit einer auf relativem Anodenpotential liegenden, zumindest teilweise parallel zu der zu behandelnden Oberfläch...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KAMMER, MANFRED, STEUER, CHRISTOPH, SENS, MARTIN, WENZEL, BERND-DIETER
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY PLASMA TECHNIQUE PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Vorrichtung (4) zur Entfernung dünner Schichten von der Oberfläche eines Substrats (5) im Vakuum, umfassend eine Transporteinrichtung (41) für Substrate (5) sowie eine Elektrodenanordnung mit einer auf relativem Anodenpotential liegenden, zumindest teilweise parallel zu der zu behandelnden Oberfläche des Substrats (5) angeordneten Gegenelektrode (1), einer Dunkelfeldabschirmung (2) und einem zwischen der Gegenelektrode (1) und der Dunkelfeldabschirmung (2) angeordneten elektrisch isolierenden Element (3), dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrodenanordnung vollständig in der Vorrichtung (4) angeordnet ist, die Dunkelfeldabschirmung (2) die vom Substrat (5) abgewandte Seite der Gegenelektrode (1) vollständig überdeckt und das elektrisch isolierende Element (3) zumindest den parallel zur Oberfläche des Substrats (5) angeordneten Teil der Gegenelektrode (1) vollständig überdeckt.