Verfahren zum Ausbilden einer dielektrischen Schicht

Verfahren, umfassend: Ausbilden (420) einer zweiten Schicht (301) über einer ersten Schicht (302); Ausbilden (424) einer Maske (304) über der zweiten Schicht (301); Entfernen (428) eines Abschnitts der Maske (304), um einen Abschnitt der zweiten Schicht (301) zu exponieren; Ausbilden (440) eines amo...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Jaschke, Gert, Tilke, Armin, Stapelmann, Chris
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
Online-Zugang:	Volltext bestellen
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