Feldeffekt-Transistor mit einer Finnen-Struktur
Feldeffekt-Transistor (1300, 1400, 1500, 1600) mit einer Finnen-Struktur (1350) aufweisend: einen ersten Source/Drain-Bereich (1303, 1403, 1503, 1603) und einen zweiten Source/Drain-Bereich (1304, 1404, 1504, 1604); einen Body-Bereich (1311), welcher innerhalb der Finnen-Struktur und zwischen dem er...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Feldeffekt-Transistor (1300, 1400, 1500, 1600) mit einer Finnen-Struktur (1350) aufweisend: einen ersten Source/Drain-Bereich (1303, 1403, 1503, 1603) und einen zweiten Source/Drain-Bereich (1304, 1404, 1504, 1604); einen Body-Bereich (1311), welcher innerhalb der Finnen-Struktur und zwischen dem ersten und dem zweiten Source/Drain-Bereich ausgebildet ist; einen metallisch leitfähigen Bereich (1333, 1633), welcher innerhalb eines Teils des ersten Source/Drain-Bereichs ausgebildet ist, wobei der metallisch leitfähige Bereich an den Body-Bereich oder an einen leicht dotierten Bereich (1313), welcher zwischen dem Body-Bereich und dem ersten Source/Drain-Bereich angeordnet ist, angrenzt; und einen Strom-Ballast-Bereich (1344, 1544, 1644), welcher innerhalb eines Teils des zweiten Source/Drain-Bereichs ausgebildet ist. |
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