Electron beam emitter for materials processing has first chamber for thermal process with beam exit window to second chamber

An electron beam emitter for thermal and non-thermal processes has a substrate with an axial electron beam (6) emitter (1) directed through a first vacuum chamber (2) in which thermal processes may be executed. The chamber (2) has a substrate holder and moving device (8). The first chamber has a beam exit window (4) to a second chamber (3) with a second substrate holder (9). Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Durchführen von Elektronenstrahlprozessen an mindestens einem Substrat, umfassend einen Axialstrahler zum Erzeugen eines Elektronenstrahls, der in eine an den Axialstrahler angrenzende evakuierbare erste Arbeitskammer gerichtet ist, wobei in der ersten Arbeitskammer thermische Elektronenstrahlprozesse durchführbar sind, wobei die erste Arbeitskammer auf der dem Axialstrahler gegenüberliegenden Seite in Elektronenstrahlrichtung ein Elektronenaustrittsfenster aufweist, durch welches Elektronen des Elektronenstrahls in eine zweite Arbeitskammer hindurchtreten und dort nicht-thermische Prozesse ausführen können.