Method for coating substrates uses a vaporized material having a relative speed which is zero relative to all points of a vaporizing source during the coating process

Method for coating substrates (1) uses a vaporized material (3) having a relative speed which is zero relative to all points of a vaporizing source (6) during the coating process. An independent claim is also included for a device for coating substrates. Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur langzeitstabilen Beschichtung von Substraten, indem mit Hilfe eines Elektronenstrahls auf die Oberfläche des Verdampfungsguts infolge einer definierten Ablenkung eine flächen- oder linienförmige Dampfquelle des auf dem Substrat abzuscheidenden Dampfes erzeugt und das Verdampfungsgut relativ zur Dampfquelle bewegt wird. Die zugrunde liegende Aufgabenstellung, ein Verfahren und eine Vorrichtung der genannten Art anzugeben, so dass auch für sublimierende und semischmelzende Materialien eine zeitlich gleichmäßige Dampfdichte- und Schichtdickenverteilung bei maximaler Ausnutzung des Verdampfungsguts erzielbar ist, wird dadurch gelöst, dass das Tiegelsystem mit dem Verdampfungsgut in der Weise beweglich ist, dass die Relativgeschwindigkeit des Verdampfungsguts für alle Punkte der Dampfquelle während eines Beschichtungsprozesses stets größer Null ist.