Verfahren zur Ausbildung eines dotierten Abschnitts und eines Transistors

Ein Verfahren zur Ausbildung eines dotierten Abschnitts (42) umfasst das Vorsehen eines Halbleitersubstrats (1) mit einer Substratoberfläche (10) und das Definieren einer Mehrzahl von vorstehenden Abschnitten (2) auf der Substratoberfläche (10). Die vorstehenden Abschnitte (2) weisen eine minimale H...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	SACHSE, HERMANN, JAKUBOWSKI, FRANK, MORHARD, KLAUS-DIETER, MONO, TOBIAS, VOELKEL, LARS, HENKE, DIETMAR
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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