Verfahren zum Herstellen einer Polierslurry mit hoher Dispersionsstabilität
Die vorliegende Erfindung betrifft ein verbessertes Verfahren zum Herstellen einer Polierslurry, umfassend ein Dispergieren von Polierteilchen, und einer anionischen polymeren Säure in Wasser und dann Zufügen zu der resultierenden Dispersion eines alkalischen Materials in einer Menge von 0,1 bis 8 G...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Die vorliegende Erfindung betrifft ein verbessertes Verfahren zum Herstellen einer Polierslurry, umfassend ein Dispergieren von Polierteilchen, und einer anionischen polymeren Säure in Wasser und dann Zufügen zu der resultierenden Dispersion eines alkalischen Materials in einer Menge von 0,1 bis 8 Gewichtsteilen, basierend auf 100 Gewichtsteilen der Polierteilchen. Die Polierslurry, die durch das erfindungsgemäße Verfahren erhalten wird, zeigt eine gute Dispersionsstabilität und eine Nicht-Preston-Polierleistung, die nützlicherweise beim chemisch-mechanischen Polieren von verschiedenen elektronischen Präzisionsvorrichtungen eingesetzt werden kann.
The present invention relates to an improved method for preparing a polishing slurry, comprising dispersing polishing particles and an anionic polymeric acid in water and then adding to the resulting dispersion an alkaline material in an amount of 0.1 to 8 weight parts based on 100 weight parts of the polishing particles. The polishing slurry obtained by the inventive method exhibits good dispersion stability and non-Prestonian polishing performance, which can be beneficially employed in chemical mechanical polishing of various precision electronic devices. |
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