Fluorhaltige Filmstruktur und Herstellungsverfahren dafür

Fluorhaltige Filmstruktur, die eine fluorhaltige Filmbeschichtung auf einer Oberfläche eines Substrats auf Eisenbasis, das aus Chrommolybdänstahl oder Chromwälzlagerstahl mit hohem Kohlenstoffgehalt besteht, umfasst,dadurch gekennzeichnet, dasseine aus einem hochkristallinen Siliciumoxid, das im Wesentlichen nur aus Silicium und Sauerstoff besteht, bestehende Zwischenschicht auf dem Substrat auf Eisenbasis gebildet ist,eine aus einem weniger kristallinen Siliciumoxid mit einer geringeren Kristallinität als das hochkristalline Siliciumoxid bestehende Bindungsschicht auf der Zwischenschicht gebildet ist unddie Filmbeschichtung auf der Bindungsschicht gebildet ist. Fluorine-containing film (14) is applied to the iron-based substrate (11) over an intermediate layer (12) of high-crystalline silicon oxide. A binding layer (13) which consists of a lesser crystalline silicon oxide with a lower crystallinity than the high-crystalline silicon is formed on the intermediate layer and the film coating is then applied over the binding layer. Intermediate layer is formed by heat treatment at temperatures of 500 to 600 [deg] C. Independent claim describes method for manufacturing a fluorine-containing film structure comprising the fluid containing silicon oxide to the iron based substrate, forming the intermediate layer by heat treatment and forming a binding layer.