Imaging system, such as objective or illuminator of microlithographic projection illumination installation, includes two specified lens types and arrangement

Invented imaging system includes first and second obliquely irradiated lenses of material with intrinsic birefringence. Lenses are so arranged in beam path that main beam passes in both lenses in specified manner.Thus preferred direction of fast axis of delay in first region and preferred direction of fast axis of dela in second region are arranged to compensate intrinsic birefringence effect, at least partly. Die Erfindung betrifft ein Abbildungssystem, insbesondere ein Objektiv oder eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, welches wenigstens eine erste und wenigstens eine zweite schiefbestrahlte Linse oder wenigstens eine erste schiefbestrahlte Linse sowie wenigstens eine zweite Linse im (110)-Kristallschnitt aufweist, welche jeweils aus Material mit intrinsischer Doppelbrechung hergestellt sind. Diese Linsen sind so im Strahlengang angeordnet, dass ein Hauptstrahl derart in der ersten Linse durch einen ersten Bereich verläuft und in der zweiten Linse durch einen zweiten Bereich verläuft, dass eine Vorzugsrichtung der schnellen Achse der Verzögerung in dem ersten Bereich und eine Vorzugsrichtung der schnellen Achse der Verzögerung in dem zweiten Bereich zueinander derart angeordnet sind, dass der Effekt der intrinsischen Doppelbrechung wenigstens teilweise kompensiert wird.