Process to inspect masks for weak spots uses aerial image simulation to produce a list of critical points or hotspots, which is analyzed using Aerial Imaging Measurement system to compare real with simulated images

An aerial image simulation is carried out of the mask design to produce a list of critical points or hotspots. Using this list the mask or test mask is analyzed using an Aerial Imaging Measurement System (AIMS) tool, whereby real aerial images are compared to simulate aerial images. The differences are used to improve the mask design. Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Maskeninspektion, welches im Rahmen des Maskendesigns der Maskenherstellung eingesetzt werden kann, um relevante Schwachstellen bereits frühzeitig erkennen und korrigieren zu können. DOLLAR A Bei dem Verfahren zur Maskeninspektion wird von dem entworfenen und in ein Maskenlayot überführten Maskendesign eine "aerial image"-Simulation, vorzugsweise eine vollflächige "aerial image"-Simulation durchgeführt, um daraus eine Liste der kritischen Stellen (Hotspots) zu ermitteln. Anhand dieser Hotspots wird die Maske/Testmaske mit Hilfe eines AIMS-Tools analysiert, indem reale "aerial images" erzeugt und mit den simulierten "aerial images" verglichen werden. Die ermittelten Unterschiede der "aerial images" werden zur Verbesserung des Maskendesigns verwendet. DOLLAR A Mit der erfindungsgemäßen Anordnung wird ein Verfahren zur Maskeninspektion im Rahmen des Maskendesigns und der Maskenherstellung zur Verfügung gestellt. Durch die Verwendung des AIMS-Tools direkt im Maskenherstellungsprozess ist eine wesentliche Beschleunigung der Maskenherstellung, bei Verringerung der Fehlerquote und Kosteneinsparung möglich.