Optisches Monitoringsystem für Beschichtungsprozesse

Die Erfindung betrifft ein optisches Monitoringsystem zur Schichtdickenmessung von im Vakuum aufgebrachten dünnen Schichten, insbesondere auf bewegten Substraten während des Beschichtungsprozesses, bei welchem die Lichtintensität des in eine Referenzlichtleitung eingekoppelten und von einem ersten p...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SCHMITT, CHRISTOPHER, WOLF, HANS DIRK, BOOS, MICHAEL, ZOELLER, ALFONS, KLUG, WERNER
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL ATOMISING APPARATUS BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS METALLURGY NOZZLES PERFORMING OPERATIONS PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES SPRAYING APPARATUS SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TESTING TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein optisches Monitoringsystem zur Schichtdickenmessung von im Vakuum aufgebrachten dünnen Schichten, insbesondere auf bewegten Substraten während des Beschichtungsprozesses, bei welchem die Lichtintensität des in eine Referenzlichtleitung eingekoppelten und von einem ersten piezoelektrischen oder elektrostriktiven oder magnetostriktiven Lichtchopper freigegebenen Lichtes einer Lichtquelle in einer Referenzphase von einer Lichtdetektoreinheit erfasst wird, das Licht der Lichtquelle in einer Messphase in eine erste Messlichtleitung eingekoppelt und das von einem zweiten piezoelektrischen oder elektrostriktiven oder magnetostriktiven Lichtchopper freigegebene Licht auf das Substrat geführt und die Lichtintensität des von dem Substrat reflektierten oder transmittierten Lichts über eine zweite Messlichtleitung von der Lichtdetektoreinheit erfasst wird und in zumindest einer Dunkelphase eine Restlichtintensität von der Lichtdetektoreinheit erfasst wird, wobei die Referenzphase, die Messphase und die Dunkelphase über die Lichtchopper zeitlich versetzt und in Abhängikeit von der Position des Substrates digital eingestellt werden.