Verfahren zur lithographischen Projektion eines Musters von isolierten oder semi-isolierten Strukturelementen und Verwendung des Verfahrens zur Herstellung einer integrierten Schaltung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	HENKE, WOLFGANG, KUNKEL, GERHARD, JAHNKE, ANDREAS, TEIPEL, ANSGAR, IACONO, STEPHANIE
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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