Gasführungsanordnung in einer Vakuumbeschichtungsanlage mit einer längserstreckten Magnetronanordnung

Gasführungsanordnung in einer Vakuumbeschichtungsanlage mit einer längserstreckten Magnetronanordnung, wobei die Gasführungsanordnung mit einem eine binäre Struktur aufweisenden Gasverteilsystem versehen ist, über das mindestens eine Gasquelle mit mehreren Gasaustrittsöffnungen verbünden ist, die in...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	ERBKAMM, WOLFGANG, SCHULZE, DIETMAR, TESCHNER, GOETZ
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Gasführungsanordnung in einer Vakuumbeschichtungsanlage mit einer längserstreckten Magnetronanordnung, wobei die Gasführungsanordnung mit einem eine binäre Struktur aufweisenden Gasverteilsystem versehen ist, über das mindestens eine Gasquelle mit mehreren Gasaustrittsöffnungen verbünden ist, die in einen Rezipienten münden, wobei ein Konstruktionselement (6) angeordnet ist, welches eine sich in Richtung der längserstreckten Magnetronanordnung (2) erstreckende erste Planarfläche (4) aufweist, in deren Oberfläche erste Vertiefungen mit einer ersten binären Struktur eingebracht und mit einer ersten Abdeckplatte (8) verschlossen sind, dadurch gekennzeichnet, dass in die Oberfläche der ersten Planarfläche (4) zusätzliche zweite oder weitere Vertiefungen mit einer zweiten oder weiteren binären Struktur eingebracht sind und dass das Konstruktionselement (6) eine sich in der Richtung der längserstreckten Magnetronanordnung (2) erstreckende zweite Planarfläche (5) aufweist, in deren Oberfläche weitere Vertiefungen mit einer weiteren binären Struktur eingebracht, und mit einer zweiten Abdeckplatte (8) verschlossen sind.