Device for coating substrates having a curved surface contains a pair of rectangular magnetron sources and substrate holders arranged in an evacuated chamber

Device for coating substrates (3) having a curved surface contains a pair of rectangular magnetron sources (1, 2) and substrate holders arranged in an evacuated chamber. The substrates are moved linearly relative to the magnetron sources during coating. The magnetron sources have tubular rotating targets having a length to diameter ratio of at least 2:1 and are arranged in a longitudinal manner to the transporting direction of the substrates. The pole lines of the magnetic central pole of the magnetron sources have a distance from each other on the target surfaces, the distance corresponding to the substrate expansion across the transporting direction. Preferred Features: The distance between the target centers is larger than the expansion of the substrates across the transporting direction. The energy in the magnetron sources in the form of unipolar pulses having a frequency of 10-100 kHz. Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Beschichten von Substraten (3) mit gekrümmter Oberfläche mittels Pulsmagnetron-Zerstäubern, enthaltend in einer evakuierbaren Beschichtungskammer mindestens ein Paar Magnetronquellen (1; 2) und Substrathalterungen, durch die Substrate (3) während der Beschichtung relativ zu den Magnetronquellen linear bewegt werden können, wobei die Magnetronquellen (1; 2) rohrförmige rotierende Targets besitzen, deren Verhältnis von Länge zu Durchmesser der Targets mindestens 2 : 1 beträgt, die Magnetronquellen (1; 2) längs zur Transportrichtung der Substrate (3) angeordnet sind, die Pollinien der magnetischen Mittelpole der Magnetronquellen auf den zugehörigen Targetoberflächen einen Abstand (4) zueinander haben, der mindestens der Substratausdehnung quer zur Transportrichtung entspricht, der kürzeste Abstand (5; 6) jedes Targets zur Oberfläche der Substrate (3) ebenfalls mindestens der Substratausdehnung quer zur Transportrichtung entspricht und die Normalen auf den Targets im Bereich der mittleren Pollinien zumindest teilweise jeweils etwa auf den nächstgelegenen Substratrand ausgerichtet sind.