Method for short-term thermal treatment of surfaces of flat objects esp. semiconductor-, glass-, or metal-substrates, involves monitoring surface temperatures of substrate relative to heat exchange via thermal radiation

A method for short-term thermal treatment of flat items, such as semiconductors, glass etc, involves using as a heat-conducting medium, a mixture of at least two gases with markedly different thermal conductivity and by individually adjusting the mixture on either side of the substrate (1) in such a way that the respective surface temperature is monitored over time, with due consideration of the respective heat exchange via thermal radiation. An Independent claim is given for a device for thermal treatment of flat objects. Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur insbesondere kurzfristigen thermischen Behandlung von insbesondere flachen Gegenständen, wie Halbleiter-, Glas- oder Metallsubstraten, welche beidseitig zumindest teilweise durch Wärmeleitung über ein wärmeleitendes Medium Wärme zu- oder abgeführt wird, und schlägt als gebrauchsvorteilhafte Weiterbildung vor, dass als wärmeleitendes Medium eine Mischung aus zumindest zwei Gasen mit stark verschiedener Wärmeleitfähigkeit verwendet wird und die Mischung auf beiden Seiten des Substrates (1) derart individuell eingestellt wird, dass unter Berücksichtigung des jeweiligen Wärmeaustauschs über Wärmestrahlung die jeweilige Oberflächentemperatur zeitlich kontrolliert ist.