Adaptive mask engineering for inspecting defects uses an algorithm to generate a two-dimensional scatter diagram by plotting grey grades of pixels from a test image in contrast to grey grades of pixels from a reference image

A two-dimensional scatter diagram is generated by plotting grey grades of pixels from a test image in contrast to grey grades of corresponding pixels from a reference image. A noise suppression filter is applied to the scatter diagram in order to define a mask form that can be deduced and completed to form a mask. Defect pixels are identified in the test image and corresponding pixel grey values are compared with the mask. A two-dimensional scatter diagram is generated by plotting grey grades of pixels from a test image in contrast to grey grades of corresponding pixels from a reference image. A noise suppression filter is applied to the scatter diagram in order to define a mask form that can be deduced and completed to form a mask. Defect pixels are identified in the test image and corresponding pixel grey values are compared with the mask. Ein zweidimensionales Streuungsdiagramm wird durch Auftragen der Graustufen von Pixeln von einem Testbild gegenüber den Graustufen von entsprechenden Pixeln von einem Referenzbild erzeugt. Ein Rauschunterdrückungsfilter wird auf das Streuungsdiagramm angewendet, um eine Maskenform zu definieren, die herausgelöst und aufgefüllt werden kann, um eine Maske zu bilden. Defektpixel im Testbild werden identifiziert, indem entsprechende Pixelgrauwerte mit der Maske verglichen werden. Eine typische Anwendung ist das Erfassen von Defekten in einem Halbleiterwafer während des Bauteileherstellungsprozesses.