Method of passivating tantalum metal surface and apparatus therefor

Způsob pasivace povrchu tantalového prášku ochlazení tantalového kovu na teplotu 32 .degree.C a pasivaci povrchu tantalového kovu plynem obsahujícím kyslík o teplotě 0 .degree.C nebo nižší. Zařízení pro provádění způsobu pasivace povrchu tantalového kovu obsahuje pec pro tepelné zpracování a zařízen...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Zheng Shiping, Zhang Qingsheng, Hua Shiwu, Yang Shengfang, Yang Zhijun, Xi Xudong, Dong Xuecheng, Jin Yong, Li Hui, Zheng Aiguo, Ma Yuezhong, Qin Hongbo
Format:	Patent
Sprache:	cze ; eng
Schlagworte:	BLASTING CASTING CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL HEAT EXCHANGE IN GENERAL HEATING INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL LIGHTING MAKING METALLIC POWDER MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER MECHANICAL ENGINEERING METALLURGY PERFORMING OPERATIONS POWDER METALLURGY STEAM OR VAPOUR CONDENSERS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TRANSPORTING WEAPONS WORKING METALLIC POWDER
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Způsob pasivace povrchu tantalového prášku ochlazení tantalového kovu na teplotu 32 .degree.C a pasivaci povrchu tantalového kovu plynem obsahujícím kyslík o teplotě 0 .degree.C nebo nižší. Zařízení pro provádění způsobu pasivace povrchu tantalového kovu obsahuje pec pro tepelné zpracování a zařízení pro nucené chlazení argonu a/nebo zařízení pro chlazení plynu obsahujícího kyslík. In the present invention, there is provided a method of passivating tantalum metal surface, wherein the method comprises cooling tantalum metal to or below 32 degC and/or passivating tantalum metal surface by oxygen-containing gas with a temperature of 0 degC. or below. Also provided is an apparatus for passivating tantalum metal surface for applying the method, comprising a heat treatment furnace, an argon forced-cooling device and/or a device for cooling oxygen-containing gas.