Device for vacuum coating slide bearings

Zařízení sestává z více pracovních komorŹ které jsou seřazeny k soběŹ a skrze něž se pohybují v temperovatelných nosných tělesech tvarově a silově držená kluzná ložiska@ V přepravním směru jsou za sebou uspořádány alespoň komora }QB propustiŹ komora }@B pro předběžnou úpravuŹ první komora }@B pro nanášení vrstevŹ druhá komora }��B pro nanášení vrstev a druhá komora }�@B propustiŹ přičemž řídicí zařízení je vytvořeno takŹ že nosná tělesa }@B jsou pohyblivá přepravní rychlostí přizpůsobitelnou dílčím procesům probíhajícím v každé vakuové komoře@ V komoře }@B pro předběžnou úpravu je uspořádána leptací jednotka }ÚB ke stacionárnímuŹ magnetickým polem podporovanému plazmovému leptání kluzných ložisek }@B@ V první komoře }@B pro nanášení vrstev je pod kluznými ložisky }@B s odstupem přizpůsobeným geometrií kluzných ložisek }@B uspořádán magnetronový zdroj }�@B pro rozprašováníŹ ve kterém se rozprašuje alespoň jedna elektrodaŹ a ve druhé komoře }��B pro nanášení vrstev je v odstupu přizpůsobeném geometrií kluzných ložisek }@B uspořádán výparník se zdrojem elektronového paprskuŕ In the present invention, there is disclosed a device for vacuum coating slide bearings wherein the device comprises several aligned processing chambers. Slide bearings, which are held together by positive and non-positive fit in tempered carrier bodies, are displaced through said chambers. In the slide bearing transport direction there are arranged the following chambers: at least a passage chamber (5), a pretreatment chamber (7), a fist layer application chamber (9), a second layer application chamber (11) and a second passage chamber (19), whereby a control apparatus is arranged in such a manner that said carrier bodies (2) move at a transport speed being adjusted to partial processes taking place in each vacuum chamber. In the pretreatment chamber (7), there is arranged an etching unit (8) for stationary magnetic field-supported plasma etching of the sliding bearings (3). In the first layer application chamber (9), below the sliding bearings (3) and at a distance adapted to the sliding bearing (3) geometry, an atomization magnetron source (10) where at least one electrode is subjected to atomization, and in the second layer application chamber (11), there is arranged, at a distance adapted to the sliding bearing (3) geometry an evaporator with an electron beam source.