光掩模注记差量测装置

本申请提供一种光掩模注记差量测装置，应用于光掩模的应用技术领域，其中，包括基体、量测件以及填充件；所述量测件和填充件设置在所述基体上，且所述填充件围绕所述量测件外设置，被配置为，该量测装置用于设置在待测光掩模；设置在待测光掩模的量测件周围存在有密度差异区域，且所述填充件位于所述密度差异区域与所述量测件之间，被配置为，所述填充件用于阻隔密度差异区域和量测件。本申请填充件位于量测件与密度差异区域之间，减少了量测件周围区域密度的不均匀性，降低了密度变化对注记差量测装置的影响，使得量测结果更符合待测光掩模实际情况，提高光掩模注记差的量测精度。