Semiconductor double-inlaying etch making course used in confined plasma reaction chamber

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	CHEN LIKAI,JIAO CHANGTAI,CAI YANGDONG
Format:	Patent
Sprache:	eng
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!