Semiconductor device and method

The invention relates to a semiconductor device and a method. In an embodiment, a device includes: a first source/drain region; a second source/drain region; an interlayer dielectric (ILD) layer over the first source/drain region and the second source/drain region; a first source/drain contact exten...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: HUANG YULIAN, WANG GUANREN, FU JINGFENG
Format: Patent
Sprache:chi ; eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!