Reaction chamber and semiconductor processing device
The invention provides a reaction chamber and a semiconductor processing device. The reaction chamber comprises a chamber side wall, a chamber bottom wall, a heat exchange element and a heat exchangesource for providing energy, wherein the heat exchange element includes a first part uniformly distri...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | chi ; eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!