Enhancement of electron and hole mobilities in 110 Si under biaxial compressive strain

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: CHAN VICTOR,FISCHETTI MASSIMO V.,HERGENROTHER JOHN M.,IEONG MEIKEI,RENGARAJAN RAJESH,REZNICEK ALEXANDER,SOLOMON PAUL M.,SUNG CHUN-YUNG,YANG MIN
Format: Patent
Sprache:eng
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