Procédé de fabrication d'un élément élastique pour un système micromécanique

L'invention concerne un rocédé de fabrication d'un élément élastique (1) pour un système micromécanique, comprenant : - la formation d'un noyau (3) en silicium ou en carbure de silicium ; - le dépôt d'une couche de thermocompensation (5) de dioxyde de silicium sur ledit noyau. Se...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Yves Petremand, Olivier Dubochet, Michel Despont, Michele Palmieri
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY HOROLOGY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES METALLURGY MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICALDEVICES MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY PERFORMING OPERATIONS PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	L'invention concerne un rocédé de fabrication d'un élément élastique (1) pour un système micromécanique, comprenant : - la formation d'un noyau (3) en silicium ou en carbure de silicium ; - le dépôt d'une couche de thermocompensation (5) de dioxyde de silicium sur ledit noyau. Selon l'invention, ladite couche de thermocompensation (5) est déposée par un procédé de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression d'orthosilicate de tétraéthyle.