LID WITH VARIABLE INTERLAYER GAP

A lid comprises a ceiling layer and a floor layer separated by a gap. The ceiling layer is configured to permit application of a force to a control surface in the floor layer. Application of this force adjusts the gap. Couvercle comprenant une couche de plafond et une couche de plancher séparées par...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	INMAN, SAMUEL WALKER, KORB, TANNER, QUAN, NICHOLAS
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY BEER BIOCHEMISTRY CHEMISTRY ENZYMOLOGY METALLURGY MICROBIOLOGY MUTATION OR GENETIC ENGINEERING SPIRITS VINEGAR WINE
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A lid comprises a ceiling layer and a floor layer separated by a gap. The ceiling layer is configured to permit application of a force to a control surface in the floor layer. Application of this force adjusts the gap. Couvercle comprenant une couche de plafond et une couche de plancher séparées par un écart. La couche de plafond est conçue pour permettre l'application d'une force à une surface de commande dans la couche de plancher. L'application de cette force ajuste l'écart.