METHOD FOR CAPTURING SILICON AT LOW HOURLY SPACE VELOCITY

The present invention relates to a method for capturing siliceous compounds in a gaseous or liquid feedstock, comprising bringing the feedstock into contact with a capture mass with a liquid hourly space velocity (LHSV) of less than 5 h -1 or a gas hourly space velocity (GHSV) of less than 500 h-1....

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Hauptverfasser: MARION, MARIE-CLAIRE, BARTHELET, KARIN, LEGAGNEUX, NICOLAS
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention relates to a method for capturing siliceous compounds in a gaseous or liquid feedstock, comprising bringing the feedstock into contact with a capture mass with a liquid hourly space velocity (LHSV) of less than 5 h -1 or a gas hourly space velocity (GHSV) of less than 500 h-1. La présente invention concerne un procédé de captation de composés silicés dans une charge gazeuse ou liquide, comprenant la mise en contact de la charge avec une masse de captation avec une vitesse spatiale horaire liquide LHSV inférieure à 5 h-1 ou une vitesse spatiale horaire gazeuse GHSV inférieure à 500 h-1.