POLYAMINOSILOXANE WATER TREE REPELLANT FOR ELECTRICAL INSULATION

The present disclosure provides a composition. In embodiment, the composition is a crosslinkable composition and includes an ethylene?based polymer, a polyaminosiloxane (PAS), and optionally a peroxide. The polyaminosiloxane (PAS) has the Formula (I) [RSi(OZ)2O1/2]q [RSi(OZ)O2/2]m [RSiO3/2]n wherein...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: PERSON, TIMOTHY J, HE, CHAO, ZONG, XIAOHONG, GOU, QIAN, SUN, YABIN, COGEN, JEFFREY M
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present disclosure provides a composition. In embodiment, the composition is a crosslinkable composition and includes an ethylene?based polymer, a polyaminosiloxane (PAS), and optionally a peroxide. The polyaminosiloxane (PAS) has the Formula (I) [RSi(OZ)2O1/2]q [RSi(OZ)O2/2]m [RSiO3/2]n wherein R is a C6-C20 aminoalkyl group with a phenyl moiety, Si is a silicon atom, O is an oxygen atom, Z is a hydrogen atom or a C1-C10 hydrocarbonyl group, q, m, and n each individually is an integer from 2 to 1,000,000; and 1/2 denotes an end block structure of Formula (II), 2/2 denotes a linear structure of Formula (III), and 3/2 denotes a branched structure of Formula (IV). Also disclosed is a crosslinked composition formed from the crosslinkable composition. La présente invention concerne une composition. Dans un mode de réalisation, la composition est une composition réticulable et comprend un polymère à base d'éthylène, un polyaminosiloxane (PAS) et éventuellement un peroxyde. Le polyaminosiloxane (PAS) répond à la formule (I) [RSi(OZ)2O1/2]q [RSi(OZ)O2/2]m [RSiO3/2]n , dans laquelle R représente un groupe aminoalkyle en C6-C20 avec une fraction phényle, Si est un atome de silicium, O est un atome d'oxygène, Z est un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarbonyle en C1-C10, q, m et n sont chacun individuellement un nombre entier de 2 à 1 000 000 ; et 1/2 représente une structure de bloc terminal de formule (II), 2/2 représente une structure linéaire de Formule (III), et 3/2 représente une structure ramifiée de formule (IV). L'invention concerne également une composition réticulée formée à partir de la composition réticulable.