ELECTRON BEAM RADIATION SYSTEM WITH ADVANCED APPLICATOR COUPLING SYSTEM HAVING INTEGRATED DISTANCE DETECTION AND TARGET ILLUMINATION

The present invention relates to linear, straight through electron beam machines that incorporate a rotary coupling system to easily attach and manually or automatically rotate field defining members such as applicators and/or shields to the electron beam machines. The rotary coupling systems also incorporate functionality for using different kinds of optical signals to automatically provide illumination, reference mark projection, and/or distance detection. The optical signals generated downstream from heavy collimator components and are transmitted along the central axis of the field defining elements so that function and accuracy are maintained as the components rotate. La présente invention concerne des machines à faisceau d'électrons longitudinal, linéaire, qui incorporent un système d'accouplement rotatif servant à fixer facilement aux machines à faisceau d'électrons des éléments de définition de champ tels que des applicateurs et/ou des blindages et à les faire tourner manuellement ou automatiquement par rapport à ces dernières. Les systèmes d'accouplement rotatif incorporent également une fonctionnalité permettant d'utiliser différents types de signaux optiques pour fournir automatiquement un éclairement, une projection de repère de référence et/ou une détection de distance. Les signaux optiques sont générés en aval de composants collimateurs lourds et sont transmis le long de l'axe central des éléments de définition de champ de sorte que la fonction et la précision soient maintenues à mesure que les composants tournent.