ANTI-REFLECTIVE LENS AND METHOD FOR TREATING A LENS TO REDUCE LIGHT REFLECTIONS FOR ANIMALS AND DEVICES THAT VIEW THROUGH THE ULTRA VIOLET LIGHT SPECTRUM

An anti-reflective lens and method for treating a lens to reduce visible light and ultraviolet light at levels perceptible to the vision system of an animal and a detection device having tetra-chromatic vision or di-chromatic vision. The treatment method produces an optical substrate that is less perceptible to an animal and detection device perceptible to view through the UV light spectrum. The method provides a substrate treated on opposite sides with an anti-reflective coating so that reflections from visible light and UV light are not visible to the animal and detection device, from incident angles between 0° to 60°. The antireflective coatings are applied in varying amounts of constituents and thicknesses, consisting of: adhesion layer, low index material (SiO2), high index material (ZrO2), and superhydrophobic layers. The substrate is initially UV treated, and then coated with the antireflective coating to minimize visible light and UV light reflection between 300-400 nanometers. L'invention concerne une lentille anti-réfléchissante et un procédé de traitement d'une lentille pour réduire la lumière visible et la lumière ultraviolette à des niveaux perceptibles par le système de vision d'un animal et un dispositif de détection ayant une vision tétrachromatique ou une vision dichromatique. Le procédé de traitement produit un substrat optique qui est moins perceptible pour un animal et un dispositif de détection perceptible pour visualiser à travers le spectre de lumière UV. Le procédé fournit un substrat traité sur des côtés opposés avec un revêtement antireflet de sorte que les réflexions provenant de la lumière visible et de la lumière UV ne soient visibles ni par l'animal ni par le dispositif de détection, à partir d'angles incidents entre 0° et 60°. Les revêtements antireflets sont appliqués dans des quantités variables de constituants et d'épaisseurs comprenant une couche d'adhérence, un matériau à faible indice (SiO2), un matériau à indice élevé (ZrO2) et des couches superhydrophobes. Le substrat est initialement traité par UV puis recouvert du revêtement antireflet pour minimiser la lumière visible et la réflexion de la lumière UV entre 300 et 400 nanomètres.