METHOD FOR OBTAINING FUNCTIONALIZED POLYMERIC SURFACES WITH PHOTOSENSITIZERS, FUNCTIONALIZED POLYMERIC MATERIAL AND USE THEREOF

The present invention describes methods for obtaining functionalized polymeric surfaces (MPn-PSm) from polymers or copolymers with appropriate functionalizations (X), which can be a halogen of a leaving group, such as polyvinyl chloride (MP1) and (chloromethyl)polystyrene-Merrifield (MP2), and curcu...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: ZANGIROLAMI, AMANDA CRISTINA, VINAGREIRO, CAROLINA DOS SANTOS, BAGNATO, VANDERLEI SALVADOR, INADA, NATALIA MAYUMI, BLANCO, KATE CRISTINA, DIAS, LUCAS DANILO, MOREIRA, LUIS GUILHERME DA SILVA ARNAUT, PEREIRA, MARIA MIGUENS
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention describes methods for obtaining functionalized polymeric surfaces (MPn-PSm) from polymers or copolymers with appropriate functionalizations (X), which can be a halogen of a leaving group, such as polyvinyl chloride (MP1) and (chloromethyl)polystyrene-Merrifield (MP2), and curcumin photosensitizers (PS1), meso-tetra(aryl)porphyrins, chlorins or bacteriochlorins halogenated and functionalized with nucleophilic groups (PS2), in particular including P2 of the type meso-imidazoyl-porphyrins, chlorins or bacteriochlorins (PS3). The structures of all the photosensitizers in the present application incorporate a functional group (Y), which is a OH, SH or NH 2nucleophile. The application also describes the covalent bonding process of the photosensitizers PS1-PS3 to the functional polymeric materials MP1-MP2 by means of a nucleophilic substitution reaction to prepare the MPn-Psm products. The formed products prevent microbial proliferation, which can cause the serious infections that are one of the main causes of death in patients using these devices. La présente invention concerne des procédés d'obtention de surfaces polymères fonctionnalisées (MPn-PSm) à partir des polymères ou copolymères avec fonctionnalisations appropriées (X), qui peuvent être un halogène ou un groupe partant, tel que le polychlorure de vinyle (MP1) et le (chlorométhyl)polystyrène-merrifield (MP2), et deux photosensibilisateurs du type curcumine (PS1), meso-tétra-aryl-porphirines, chlorines et bactériochlorines halogénées et fonctionnalisées avec des groupes nucléophiles (PS2). Tous les photosensibilisateurs de la présente invention renferment dans leur structure le groupe fonctionnel (Y), ce dernier étant un nucléophile du type OH, SH ou NH2. L'invention concerne également le procédé de liaison covalente des photosensibilisateurs PS1-PS3 aux matériaux polymères fonctionnalisés MP1-MP2, au moyen d'une réaction de substitution nucléophile pour préparer les produits MPn-PSm. Les produits formés évitent la prolifération microbienne, cause d'infections graves, et l'une des principales causes de mort chez les patients utilisant ces dispositifs.