METHOD FOR MANUFACTURING STRESS-RELIEF-ANNEALING-RESISTANT, LOW-IRON-LOSS GRAIN-ORIENTED SILICON STEEL

A method for manufacturing stre s s-rel i ef-anne al i ng-re si stant, low-iron-loss grain-oriented silicon steel, comprising: using a pulse laser, scanning grooving on single or double surfaces of a silicon steel sheet after cold rolling, after decarburizing annealing, after high-temperature anneal...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MA, CHANGSONG, ZHAO, ZIPENG, WU, MEIHONG, SHEN, KANYI, LI, GUOBAO, CHU, SHUANGJIE, YANG, YONGJIE, ZHANG, HUABING, JI, YAMING, HU, ZHUOCHAO
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method for manufacturing stre s s-rel i ef-anne al i ng-re si stant, low-iron-loss grain-oriented silicon steel, comprising: using a pulse laser, scanning grooving on single or double surfaces of a silicon steel sheet after cold rolling, after decarburizing annealing, after high-temperature annealing or after hot stretching, temper rolling and annealing, forming parallel grooves in a rolling direction, wherein single laser pulse time width0.05 J/cm2; single scan energy density of single laser beam is 1 J/cm2 ¨100 J/cm2, the pulse laser is single beam spot or combination of multiple beam spots, having circular or elliptic, a diameter of 5 [tm-1 mm in a scanning direction, and a diameter of 5 [tm-300 1..im in a direction perpendicular to the scanning direction; when scanning grooving at the same position of the sheet, the product of the number of beam spots and scan times>5. L'invention concerne un procédé résistant au recuit de relâchement de contraintes pour la fabrication d'un acier au silicium orienté à faible perte de fer, le procédé comprenant les étapes consistant à : mettre en uvre, au moyen d'un laser à impulsions, un rainurage par balayage sur une surface unique ou sur deux surfaces d'une feuille d'acier au silicium après un laminage à froid, un recuit de décarburation, un recuit à haute température ou après un recuit d'aplatissement par étirage à chaud, et former plusieurs rainures parallèles les unes aux autres dans une direction de laminage de la feuille d'acier au silicium, une largeur de temps de laser à impulsion unique du laser à impulsions étant inférieure ou égale à 100 ns, et une densité d'énergie de pic d'impulsion unique étant supérieure ou égale à 0,05 J/cm2 ; la densité d'énergie d'un balayage unique d'un faisceau laser unique est de 1 J/cm2-100 J/cm2 ; un point de faisceau du laser à impulsions est un point de faisceau unique ou une combinaison d'une pluralité de points de faisceau, la forme du point de faisceau est circulaire ou elliptique, et le diamètre du point de faisceau dans une direction de balayage est de 5 µm à 1 mm, et son diamètre dans une direction perpendiculaire à la direction de balayage est de 5 µm à 300 µm ; et lorsque le rainurage par balayage est effectué à la même position sur la feuille d'acier au silicium, le produit du nombre de points de faisceau du laser à impulsions et du nombre de balayages est supérieur ou égal à 5.