FORMATION DIP EVALUATION SYSTEM
The disclosed embodiments include systems and methods to evaluate a formation dip of a formation bedding. The system includes memory configured to store a color image indicative of a log of a formation bedding. The system also includes a processor configured to execute instructions to filter colors...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The disclosed embodiments include systems and methods to evaluate a formation dip of a formation bedding. The system includes memory configured to store a color image indicative of a log of a formation bedding. The system also includes a processor configured to execute instructions to filter colors of the color image to determine one or more cusps of the formation dip, and cross correlate a reference wave with the one or more cusps of the formation dip to match curvatures of the reference wave with the one or more cusps of the formation dip illustrated in the color image, wherein the curvatures of the reference wave are based on one or more parameters of the formation bedding. The processor is further operable to generate a wave that matches the one or more cusps of the formation dip with the reference wave, where the wave is indicative of the formation dip.
La présente invention concerne, selon des modes de réalisation, des systèmes et des procédés d'évaluation d'un pendage de formation d'un litage de formation. Le système comprend une mémoire configurée pour stocker une image couleur indiquant un journal d'un litage de formation. Le système comprend également un processeur configuré pour exécuter des instructions pour filtrer des couleurs de l'image couleur pour déterminer un ou plusieurs cuspides du pendage de formation, et mettre en corrélation croisée une onde de référence avec lesdits cuspides du pendage de formation pour faire correspondre des courbures de l'onde de référence avec lesdits cuspides du pendage de formation illustrés dans l'image couleur, les courbures de l'onde de référence étant basées sur un ou plusieurs paramètres du litage de formation. Le processeur peut être en outre utilisé pour générer une onde qui fait correspondre lesdits cuspides du pendage de formation à l'onde de référence, l'onde indiquant le pendage de formation. |
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