SYSTEMS AND METHODS FOR PRIMING FLUID CIRCUITS OF A PLASMA PROCESSING SYSTEM

Methods of priming a plasma processing system are disclosed. The plasma processing system has a number of different fluid flow circuits that are defined by sources of fluid, fluid flow paths, waste containers, a mixer, a separator, valves and a pump. A first fluid circuit is flushed, where the first fluid circuit is defined by a source of a first fluid, a first valve positioned between the source of the first fluid and the first fluid flow path, a second valve positioned between the first fluid flow path and the second fluid flow path, a first pump positioned between the second fluid flow path and the third fluid flow path, and a first waste container in fluid communication with the third fluid flow path. A second fluid circuit is then flushed by closing and opening certain valves. L'invention concerne des procédés pour amorcer un système de traitement de plasma. Le système de traitement de plasma comprend un certain nombre de circuits de flux de fluide différents qui sont définis par des sources de fluide, des trajets d'écoulement de fluide, des récipients de déchets, un mélangeur, un séparateur, des vannes et une pompe. Un premier circuit de fluide est rincé, le premier circuit de fluide étant défini par une source d'un premier fluide, une première vanne positionnée entre la source du premier fluide et le premier trajet d'écoulement de fluide, une deuxième vanne positionnée entre le premier trajet d'écoulement de fluide et le deuxième trajet d'écoulement de fluide, une première pompe positionnée entre le deuxième trajet d'écoulement de fluide et le troisième trajet d'écoulement de fluide et un premier récipient de déchets en communication fluidique avec le troisième trajet d'écoulement de fluide. Un deuxième circuit de fluide est ensuite rincé par fermeture et ouverture de certaines vannes.