METHOD AND COMPOSITION FOR REMOVING DEPOSITS

The present invention provides methods and compositions useful for conditioning and removing solid deposits that have formed on or otherwise accumulated within one or more components including, for example, scale formed within a steam generating system. The aqueous cleaning compositions incorporate one or more quaternary ammonium hydroxides characterized by PKa values no less than about 13.5. These quaternary ammonium hydroxides may be used alone or in combination with one or more additives including, for example, chelating agents, reducing or oxidizing agents, pH adjustment agents, surfactants, corrosion inhibitors, complexing agents, dispersants and combinations thereof Il est décrit des méthodes et compositions utiles pour le conditionnement et lélimination de dépôts solides sétant formés ou accumulés dans au moins un composant, comme les dépôts de tartre dans un système de production de vapeur. Les compositions de nettoyage aqueuses comprennent au moins un hydroxyde dammonium quaternaire caractérisé par une valeur du pKa denviron 13,5 ou plus. Les hydroxydes dammonium quaternaire peuvent être utilisés seuls ou en combinaison avec au moins un autre agent additif, comme un produit séquestrant, un agent réducteur ou oxydant, un agent de modification du pH, un agent de surface, un inhibiteur de corrosion, un agent complexant, un agent dispersant ou une combinaison de ceux-ci.