SYSTEMS AND METHODS FOR COATING SURFACES

A chemical vapor deposition system for coating one or more workpieces is described herein. The deposition system includes a plurality of processing chambers which may be operated independently to increase throughput of the deposition system. Each chamber includes a modular fixture that is configured to maintain the workpieces in a predetermined arrangement which allows for a hollow cathode effect to be maintained in an Interior space of the chamber. The deposition system achieves significantly faster, higher-quality deposition and more complete, conformal coverage. L'invention concerne un système de dépôt chimique en phase vapeur pour le revêtement d'une ou de plusieurs pièces. Le système de dépôt comprend une pluralité de chambres de traitement qui peuvent fonctionner indépendamment pour augmenter le rendement du système de dépôt. Chaque chambre comprend un accessoire modulaire qui est conçu pour maintenir les pièces selon un agencement prédéfini qui permet à un effet de cathode creuse d'être maintenu dans un espace intérieur de la chambre. Le système de dépôt permet d'obtenir un dépôt plus rapide et de qualité supérieure et une couverture plus complète et conforme.