HARD SURFACE CLEANING COMPOSITION AND METHOD OF IMPROVING DRYING TIME USING THE SAME
A hard surface cleaning composition and a method of cleaning a hard surface with a low drying time composition is provided. The hard surface cleaning composition comprises: 0.02 wt. % to 0.07 wt.% amine oxide; 0.15 wt. % to 1.50 wt.% of a glycol ether having an HLB between 6.5 and 7.0; 0.10 wt. % to...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | A hard surface cleaning composition and a method of cleaning a hard surface with a low drying time composition is provided. The hard surface cleaning composition comprises: 0.02 wt. % to 0.07 wt.% amine oxide; 0.15 wt. % to 1.50 wt.% of a glycol ether having an HLB between 6.5 and 7.0; 0.10 wt. % to 0.50 wt. % of a glycol ether having an HLB between 6.0 and 6.5; and at least 97 wt.% water, by weight of the overall composition.
L'invention concerne une composition de nettoyage de surface dure et un procédé de nettoyage d'une surface dure avec une composition à temps de séchage réduit. La composition de nettoyage de surface dure comprend : 0,02 % en poids à 0,07 % en poids % d'oxyde d'amine; 0,15 % en poids à 1,50 % en poids d'un éther de glycol ayant un HLB compris entre 6,5 et 7,0; 0,10 % en poids à 0,50 % en poids d'un éther de glycol ayant un HLB compris entre 6,0 et 6,5; et au moins 97 % en poids d'eau de la composition globale. |
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