POLAR MODIFIER SYSTEMS FOR HIGH VINYL BLOCK COPOLYMERIZATION

Polar modifier systems based on a blend of DTHFP, ETE, TMEDA, DMTHFMA and/or functionally similar compounds with BDMAEE and SMT are used to make block copolymers having high levels of pendant vinyl double bond repeat units, which is through highly selective 1.2-bond butadiene addition, low vinylcyclopentane formation, unimodal narrow molecular weight distribution, and a low level of randomized comonomer repeat units. The block copolymers have very high levels of 1,2-vinyl content and high 3,4-vinyl bond addition of the conjugated diene monomer and low vinylcyclopentane content. The polar modifier systems provide a fast polymerization rate, with a unimodal narrow molecular weight distribution. The polar modifier systems allow operation at a higher temperature than in prior art systems, which reduces cooling requirements. Cette invention concerne des systèmes de modificateurs polaires basés sur un mélange de DTHFP, ETE, TMEDA, DMTHFMA et/ou autres composés fonctionnellement similaires avec BDMAEE et SMT qui sont utilisés pour produire des copolymères séquencés ayant des niveaux élevés de motifs à répétition de type double liaison vinylique latérales, obtenus par ajout très sélectif de butadiène à liaison 1,2, basse formation de vinylcyclopentane, distribution des poids moléculaires unimodale étroite, et faible niveau de motifs à répétition de type comonomères randomisés. Les copolymères séquencés présentent des niveaux très élevés de teneur en 1,2-vinyle et un ajout élevé de liaisons 3,4-vinyle du monomère de diène conjugué et une basse teneur en vinylcyclopentane, et les systèmes de modificateurs polaires offrent une vitesse de polymérisation rapide, à distribution des poids moléculaires unimodale étroite. Les systèmes de modificateurs polaires selon l'invention permettent un fonctionnement à une température plus élevée que dans les systèmes de l'état de la technique, ce qui réduit les exigences de refroidissement.