METHOD AND SYSTEM FOR PROVIDING ULTRAPURE WATER WITH FLEXIBLE LAMP CONFIGURATION

A method and system of providing ultrapure water for semiconductor fabrication operations is provided. The water is treated by utilizing a free radical scavenging system. The free radical scavenging system can utilize actinic radiation with a free radical precursor compound, such as ammonium persulfate. The ultrapure water may be further treated by utilizing ion exchange media and degasification apparatus. A control system can be utilized to regulate a continuously variable intensity of the actinic radiation. L'invention concerne un procédé et un système permettant de fournir de l'eau ultra pure pour des opérations de fabrication de semi-conducteurs. L'eau est traitée au moyen d'un système de piégeage de radicaux libres. Le système de piégeage de radicaux libres peut utiliser le rayonnement actinique avec un composé précurseur de radicaux libres, par exemple du persulfate d'ammonium. L'eau ultra pure peut par ailleurs être traitée au moyen d'un milieu d'échange d'ions et d'un appareil de dégazage. Un système de commande peut être utilisé pour réguler une intensité variable en continu du rayonnement actinique.