CLEANSING COMPOSITION CONTAINING OLIGODYNAMIC METAL AND EFFICACY ENHANCING AGENT

In one aspect is disclosed a cleansing composition comprising: (i) a surfactant; (ii) an oligodynamic metal or ions thereof; (iii) a chelating agent; and, a polymer having a group comprising a site having one or more lone pair of electrons wherein,said surfactant is soap. The polymer having a group...

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Hauptverfasser: AGARKHED, AJIT MANOHAR, KUMAR, NITISH, PARUCHURI, DIVYA
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:In one aspect is disclosed a cleansing composition comprising: (i) a surfactant; (ii) an oligodynamic metal or ions thereof; (iii) a chelating agent; and, a polymer having a group comprising a site having one or more lone pair of electrons wherein,said surfactant is soap. The polymer having a group comprising a site having one or more lone pair of electrons enhances the antimicrobial efficacy of the oligodynamic metal. Dans un aspect, l'invention concerne une composition nettoyante comprenant : (i) un tensioactif ; (ii) un métal oligodynamique ou des ions de celui-ci ; (iii) un agent chélateur ; et, un polymère ayant un groupe comprenant un site ayant une ou plusieurs paires d'électrons libres, ledit tensioactif étant un savon. Le polymère ayant un groupe comprenant un site ayant une ou plusieurs paires d'électrons libres augmente l'efficacité antimicrobienne du métal oligodynamique.