THIN-FILM DEVICES AND FABRICATION

Thin-film devices, for example electrochromic devices for windows, and methods of manufacturing are described. Particular focus is given to methods of patterning optical devices. Various edge deletion and isolation scribes are performed, for example, to ensure the optical device has appropriate isolation from any edge defects. Methods described herein apply to any thin-film device having one or more material layers sandwiched between two thin film electrical conductor layers. The described methods create novel optical device configurations. La présente invention porte sur des dispositifs à couches minces, par exemple des dispositifs électrochromiques pour des fenêtres, et des procédés de fabrication de ceux-ci. Une attention particulière est portée à des procédés de modélisation de dispositifs optiques. Différents tracés d'isolation et de suppression de bord sont réalisés, par exemple, pour garantir que le dispositif optique présente une isolation appropriée vis-à-vis de quelconques défauts de bord. Les procédés décrits dans l'invention s'appliquent à n'importe quel dispositif à couches minces ayant une ou plusieurs couches de matière prises en sandwich entre deux couches de conducteur électrique à couches minces. Les procédés de la présente invention permettent de créer de nouvelles configurations de dispositifs optiques.